路透：ASML续主导晶片设备市场　客户纷采用High NA

路透社分析，荷兰晶片设备制造商ASML正延续其市场主导地位，其客户已陆续承诺采用其高数值孔径设备，ASML在荷兰爱因霍芬的新厂上周动工，财务长达森表示，AI热潮已改变客户的心态。

路透社报导，艾司摩尔（ASML）每台造价2亿美元的现有极紫外光曝光机（EUV）是制造先进人工智慧（AI）晶片不可或缺的工具，订单几乎已排满至2027年，同时客户也纷纷承诺采用其下一代每台造价4亿美元的高数值孔径（High NA）设备。 ASML财务长达森（Roger Dassen）指出，他近期与一家主要客户对话时，对方的语气是：「你能不能给我更多？你能不能快点给我？」

台积电、三星（Samsung）与SK海力士（SKHynix）都已订定开始在生产中采用High NA的时间，较早采用这项技术的英特尔（Intel）表示，这些设备已符合产能与可靠度标准。

路透社指出，这些进展及新增产能计划显示，身为欧洲市值最高企业的ASML，有望将其在晶片微影设备市场的主导地位延续到2030年代。

ASML执行长福克（Christophe Fouquet）接受路透社电话访问时表示：「老实说，我不认为（AI热潮）已经走到尽头。」

ASML客户包括所有主要晶片制造商，其中台积电尤为重要，台积电为苹果（Apple）与辉达（Nvidia）制造晶片，过去曾质疑High NA设备是否值得4亿美元的售价，如今已承诺从2030年开始采用这项技术。

摩根大通（JPMorgan Chase）估计，ASML于2025年在全球微影设备市场的市占率达94%。

在最尖端的领域，ASML的地位更稳固：自2010年代末期以来，ASML一直垄断EUV设备，这类设备可制造最强大商用AI晶片中的最细微电路。

ASML在EUV领域没有商业竞争对手。日本尼康（Nikon）和佳能（Canon）及中国新兴竞争对手所制造的系统都使用深紫外光（DUV），属于较旧技术。

晨星（Morningstar）分析师科雷奥内罗（JavierCorreonero）表示，外界担心这些企业即将在微影技术追上ASML，等同于「错误资讯」。